П 37 Плазменная технология в производстве СБИС [] / [Д. Толливер [и др.] ; под ред.: Н. Айнспрука, Д. Брауна ; пер. с англ.: Ю. М. Золотарева, В. В. Юдина, Е. С. Машковой. - Москва : Мир , 1987. - 1987 с. : рис., табл. - Авт. зазначено на звороті тит. арк. - Библиогр. в конце глав. - Предм. указ.: с. 463-466. - 3.40 р. Переклад назви: VLSI Electronics Microstructure Science Рубрики: Напівпровідникові матеріали та вироби--Обробка--Наукові видання Кл.слова (ненормовані): полупроводниковые материалы и изделия -- история плазменной обработки -- історія плазмової обробки -- стимулированное плазмой осаждение -- стимулююче плазмою осадження -- трехслойный резист -- тришаровий резист -- плазменное травление -- плазмове травлення -- травление при высоком давлении -- травлення при високому тису -- реактивное ионное травление -- реактивне іонне травлення -- ионно-лучевое травление -- іонно-променеве травлення -- реактивное ионно-лучевое травление -- реактивне іонно-променеве травлення -- диагностика плазмы -- діагностика плазми -- сухое анизотропное травление -- сухе анізотропне травлення Анотація: Физика, химия и технология применения плазменной обработки в производстве СБИС. Утримувачі документа: ЖОУНБ ім. О. Ольжича Дод.точки доступу: Толливер, Дональд; Новицки, Рональд; Хесс, Деннис; Горчика, Т.; Айнспрук, Н. \ред.\; Браун, Д. \ред.\; Золотарев, Ю. М. \пер.\; Юдин, В. В. \пер.\; Машкова, Е. С. \пер.\ Примірників всього: 1 ВВ (1) Свободны: ВВ (1) |