Про нас Електронний депозитарій LIBO Зведений каталог України
Авторизація
Прізвище
Пароль
 

Бази даних


Електронний каталог ЖОУНБ ім. О. Ольжича- результати пошуку

Вид пошуку

Зона пошуку
у знайденому
Формат представлення знайдених документів:
повнийінформаційнийкороткий
Відсортувати знайдені документи за:
авторомназвоюроком виданнятипом документа
Пошуковий запит: <.>K=діагностика плазми<.>
Загальна кількість знайдених документів : 2
Показані документи с 1 за 2
1.
621.37/.39:389
А 43


   
    Актуальные проблемы метрологии в радиоэлектронике [] / П. Н. Агалецкий, В. А. Бойко ; под ред. В. К. Коробова. - М. : Издательство стандартов, 1985. - 296 с. : рис. - Лит.: с. 280-293. - 1.50 р.
УДК
ББК 32 + 30.10
Рубрики: Радіоелектроніка--Наукові видання
   
Кл.слова (ненормовані):
метрологія -- метрология -- еденицы времени -- одиниці часу -- стабилизированные лазеры -- стабілізовані лазери -- теплові компаратори -- тепловые компараторы -- радіотехнічні еталони -- радиотехнические эталоны -- плазма -- діагностика плазми -- диагностика плазмы -- спектроскопія -- спектроскопия -- електроакустомагнітний ефект -- электроакустомагнитный эффект -- біомедичні вимірювання -- биомедицинские измерения
Анотація: Результаты научных метрологических исследований, полученные при создании радиотехнических эталонов.

Утримувачі документа:
ЖОУНБ ім. О. Ольжича

Дод.точки доступу:
Агалецкий, Павел Николаевич; Бойко, Владимир Алексеевич; Дадашев, Рафик Султанович; Механников, Анатолий Иванович; Коробов, В. К. \ред.\
Примірників всього: 1
ВВ (1)
Свободны: ВВ (1)
Знайти схожі

2.
31.233
П 37


   
    Плазменная технология в производстве СБИС [] / [Д. Толливер [и др.] ; под ред.: Н. Айнспрука, Д. Брауна ; пер. с англ.: Ю. М. Золотарева, В. В. Юдина, Е. С. Машковой. - Москва : Мир , 1987. - 1987 с. : рис., табл. - Авт. зазначено на звороті тит. арк. - Библиогр. в конце глав. - Предм. указ.: с. 463-466. - 3.40 р.
Переклад назви: VLSI Electronics Microstructure Science
ББК 31.233
Рубрики: Напівпровідникові матеріали та вироби--Обробка--Наукові видання
   
Кл.слова (ненормовані):
полупроводниковые материалы и изделия -- история плазменной обработки -- історія плазмової обробки -- стимулированное плазмой осаждение -- стимулююче плазмою осадження -- трехслойный резист -- тришаровий резист -- плазменное травление -- плазмове травлення -- травление при высоком давлении -- травлення при високому тису -- реактивное ионное травление -- реактивне іонне травлення -- ионно-лучевое травление -- іонно-променеве травлення -- реактивное ионно-лучевое травление -- реактивне іонно-променеве травлення -- диагностика плазмы -- діагностика плазми -- сухое анизотропное травление -- сухе анізотропне травлення
Анотація: Физика, химия и технология применения плазменной обработки в производстве СБИС.

Утримувачі документа:
ЖОУНБ ім. О. Ольжича

Дод.точки доступу:
Толливер, Дональд; Новицки, Рональд; Хесс, Деннис; Горчика, Т.; Айнспрук, Н. \ред.\; Браун, Д. \ред.\; Золотарев, Ю. М. \пер.\; Юдин, В. В. \пер.\; Машкова, Е. С. \пер.\
Примірників всього: 1
ВВ (1)
Свободны: ВВ (1)
Знайти схожі

 
© Міжнародна Асоціація користувачів і розробників електронних бібліотек і нових інформаційних технологій
(Асоціація ЕБНІТ)