М78 МОП-СБИС. Моделирование элементов и технологических процессов [] = Process and Device Simulaion for MOS-VLSI Circuits / под ред. П. Антонетти [и др.] ; пер. с англ.: В. Л. Кустова, В. М. Петрова, Р. А. Селляховой ; под ред. Р. А. Суриса. - Москва : Радио и связь, 1988. - 496 с. : рис., табл. - Лит.: с. 488-490. - Список работ, пер. на рус. яз.: с. 491. - ISBN 5-256-00130-2 : 4.10 р. Рубрики: Інтегральні мікросхеми--Виготовлення--Практичні посібники Математичне моделювання--Технологічні процеси--Практичні посібники фывфывфыв: интегральные микросхемы -- математическое моделирование -- технологические процессы -- диффузия в кремнии -- дифузія в кремнії -- термическое окисление кремния -- термічне окислення кремнію -- хлорированные окислы -- хлоровані оксиди -- ионная имплантация -- іонна імплантація -- пучковый отжиг имплантированного кремния -- пучковий отжиг імплантованого кремнію -- контроль материалов -- контроль матеріалів -- поликристаллические кремниевые структуры -- полікристалічні кремнієві структури -- двумерное моделирование -- двовимірне моделювання -- численное моделирование процессов -- чисельне моделювання процесів -- оптическая литография -- оптична літографія -- анализ планарных приборов -- аналіз планарних приладів -- метод конечных элементов -- метод кінцевих елементів Аннотация: Модели диффузии, ионной имплантации, окисления, отжига, литографии, травления и модели, описывающие функциональные МОП-транзисторов. Держатели документа: ЖОУНБ ім. О. Ольжича Доп.точки доступа: Антонетти, П. \ред.\; Антониадис, Д. \ред.\; Даттон, Р. \ред.\; Оулдхем, У. \ред.\; Кустов, В. Л. \пер.\; Петров, В. М. \пер.\; Селляхова, Р. А. \пер.\; Сурис, Р. А. \ред.\ Экземпляры всего: 1 ВВ (1) Свободны: ВВ (1) |